TWOJA PRZEGLĄDARKA JEST NIEAKTUALNA.

Wykryliśmy, że używasz nieaktualnej przeglądarki, przez co nasz serwis może dla Ciebie działać niepoprawnie. Zalecamy aktualizację lub przejście na inną przeglądarkę.

Katedra Mikrosystemów

Punktowe źródło promieniowania rentgenowskiego MEMS

Tytuł: „Punktowe źródło promieniowania rentgenowskiego MEMS”

Instytucja Finansująca: Narodowe Centrum Nauki

Kierownik Projektu na PWr: dr hab. inż. Tomasz Grzebyk, prof. PWr

Okres realizacji na PWr: 21.01.2022 – 20.01.2026

Wartość projektu: 1 309 440 zł

Opis: Odkrycie promieniowania X przez Wilhelma Roentgena zrewolucjonizowało świat. Niemal każdy na własnej skórze mógł odczuć jego przydatność, m.in. w obrazowaniu medycznym czy diagnostyce.  Przed 100 laty promieniowanie rentgenowskie wytwarzane było przez potężne lampy, w których grzany do wysokiej temperatury żarnik emitował elektrony. Elektrony przyspieszone do bardzo dużej prędkości docierały do anody i hamując wydzielały promieniowanie X. Co bardzo istotne, lampy musiały być odpompowane do wysokiej próżni i szczelnie zatopione, tak aby ich właściwości nie ulegały z czasem pogorszeniu – elektrony rozpraszane byłyby na cząstkach gazu, jonizowałyby je, a same traciłyby energię. Dodatkowo, w obecności powietrza żarnik szybko by się wypali. Na przestrzeni ostatnich lat prowadzono prace nad miniaturyzacją lamp rentgenowskich, udało się znacznie ograniczyć ich rozmiary, w niektórych rozwiązaniach termiczne źródło elektronów zastąpiono źródłem polowym, co spowodowało zmniejszenie zużycia mocy. Przez długi czas nie potrafiono sobie jednak poradzić z problemem wytworzenia odpowiednio wysokiej i stabilnej próżni we wnętrzu miniaturowych urządzeń. Prowadziło to do tego, że choć większość komponentów źródła było wykonanych przy użyciu wysokozaawansowanych technik mikro- i nanoinżynieryjnych, to całość uszczelniana była w klasycznych szklanych, ceramicznych lub metalowych obudowach przy wykorzystaniu technik opracowanych dziesięciolecia temu.

Przełom nastąpił dopiero w ostatnich latach, kiedy to w Katedrze Mikrosystemów PWr opracowano pierwsze miniaturowe pompy próżniowe wykonane technikami MEMS, które umożliwiają wytworzenie wysokiej próżni w różnego typu mikrosystemach.    

Celem niniejszego projektu było zbadanie możliwości opracowania kompletnego miniaturowego źródła promieniowania rentgenowskiego z wykorzystaniem technik MEMS. Cel na tym etapie został już w dużej mierze osiągnięty. Opracowano źródło, które posiada katodę polową z warstwy nanorurek węglowych, układ elektrod odpowiedzialnych za emisję i skupienie wiązki elektronów, odpowiednio uformowaną anodę, na której generowane jest promieniowanie X oraz zintegrowaną mikropompe próżniową. Całość wykonana jest z krzemu i szkła, ma wymiary 30x15x10 mm3, waży kilka gramów, dzięki temu w przyszłości tego typu źródła mogłyby być produkowane seryjnie i można by je stosować np. w stacjonarnych tomografach rentgenowskich albo integrować z innymi mikrosystemami analitycznymi.

Schemat MEMS X-ray

Zastosowanie    Emiter elektronów

Powiększenie obrazu

Gotowe źródło X-ray MEMS

Najważniejsze publikacje

1. Paweł Urbański, Tomasz P. Grzebyk, Detection system for a miniature MEMS X-ray source. Opto-Electronics Review. 2023, vol. 31, nr 4, art. e147038, pp. 1-6.
2. Paweł Urbański, Tomasz P. Grzebyk, Review of X-ray detection systems. Opto-Electronics Review. 2023, vol. 31, nr 3, art. e146554, pp. 1-8.
3. Paweł Urbański, Marcin S. Białas, Michał Krysztof, Tomasz P. Grzebyk, Transmission target for a MEMS X-ray source. Journal of Microelectromechanical Systems. 2023, vol. 32, nr 4, pp. 398-404.
4. P. Urbański, T. Grzebyk, MEMS-compatible X-Ray source, Journal of Microelectromechanical Systems. 2024, s. 1-3.
5. P. Urbański, T. Grzebyk, M. Krysztof, D. Nowak, Optimization of the Transmission X-Ray Target Toward Obtaining Monochromatic Radiation, Adv. Optical Mater. 2024, 2401534
6. P. Urbański, P. Szyszka, M. Białas, T. Grzebyk, Point field emission electron source with a magnetically focused electron beam. Ultramicroscopy. 2024, vol. 258, art. 113911, 1-8.
7. M. Krysztof, P. Miera, P. Urbański, T. Grzebyk, M. Hausladen and R. Schreiner, Integrated silicon electron source for high vacuum microelectromechanical systems devices, JVST: B, 2024, vol. 42, nr 2, art. 023001, s. 1-9.

Politechnika Wrocławska © 2025

Nasze strony internetowe i oparte na nich usługi używają informacji zapisanych w plikach cookies. Korzystając z serwisu wyrażasz zgodę na używanie plików cookies zgodnie z aktualnymi ustawieniami przeglądarki, które możesz zmienić w dowolnej chwili. Ochrona danych osobowych »

Akceptuję