TWOJA PRZEGLĄDARKA JEST NIEAKTUALNA.

Wykryliśmy, że używasz nieaktualnej przeglądarki, przez co nasz serwis może dla Ciebie działać niepoprawnie. Zalecamy aktualizację lub przejście na inną przeglądarkę.

Katedra Mikrosystemów

Tekstronika

Realizowane prace obejmują obszar tekstroniki, m.in. pod kątem otrzymywania struktur selektywnych częstotliwościowo FSS (ang. Frequency Selective Surfaces). Wykazują specyficzną selektywność absorpcji, tłumienia lub odbicia dla padających na nie fal elektromagnetycznych (EM) przez co z powodzeniem są stosowane jako selektywne filtry promieniowania elekromagnetycznego w zakresie częstotliwości od mikrofalowych do optycznych. Struktury FFS w większości są wytwarzane na sztywnych, płaskich i gładkich powierzchniach wykonanych z laminatów, szkła czy ceramiki, jednak ze względu na potencjał zastosowania w medycynie czy wojsku niezwykle interesujące jest wykonanie ich na elastycznych lub tekstylnych podłożach, natomiast w ramach realizowanych badań, analizowano wykonalność tekstylnych FSS oraz wpływ elastycznego i chropowatego podłoża tekstylnego na jakość i przewodnictwo otrzymanych warstw.

Struktury selektywne częstotliwościowo wykonywano techniką sitodruku na różnego rodzaju podłożach tekstylnych i foliach. Skuteczność tłumienia określonych częstotliwości promieniowania EM zależy w dużej mierze od przewodnictwa elektrycznego nałożonego wzoru. W tym celu w pierwszej kolejności dla każdego z wybranych podłoży tekstylnych i folii, a także dla każdego materiału, z którego otrzymywano wzory (pasta srebrowa, pasta węglowa) określono optymalne parametry sitodruku m.in. ilość warstw druku niezbędnych do otrzymania dobrze przewodzących wzorów o odpowiednim stopniu pokrycia tkaniny oraz dokładnym odwzorowaniu założonej geometrii wzoru. Wykonane wg projektu (rys. 1a) nadruki scharakteryzowano pod kątem ich rezystancji (rys. 1b), stopnia pokrycia powierzchni (rys. 1 c,d), odwzorowania geometrii (rys. 1e), grubości nadruków (rys. 1f) i ich chropowatości (rys. 1g). Po wykonaniu pełnej charakteryzacji materiałowej zaprojektowano i wykonano tekstylne i foliowe FFS, które zbadano metodą antenową (rys. 1h) pod kątem ekranowania wybranych częstotliwości promieniowania elektromagnetycznego z zakresu mikrofalowego (2-18 GHz) oraz porównano z wynikami symulacji (rys. 1i).

a)tesktronika.pngb)tekstronika_rez.pngc)tekstroniak_sem.png
d)tekstroniak_pow.pnge)tekstroniak_sem_2.pngf)tesktronika_grubosc.png
g)tekstronika_chrop.pngh)tekstronika_ufale.pngi)tekstronika_sym.png
Rys. 1. Wyniki badań wybranej tekstylnej struktury FSS wykonanej z pasty srebrowej na podłożu PET: a) projekt struktury, b) rezystancja, c) obraz SEM, d) obraz z mikroskopu optycznego: powierzchnia, e) obraz SEM, f) obraz z mikroskopu optycznego: przekrój, g) chropowatość, h) stanowisko pomiarowe i) symulacja i wyniki właściwości ekranujących.

Najważniejsze publikacje

  1. Rac-Rumijowska, O., Pokryszka, P., Rybicki, T., Suchorska-Woźniak, P., Woźniak, M., Kaczkowska, K., Karbownik, I. (2024). Influence of Flexible and Textile Substrates on Frequency-Selective Surfaces (FSS). Sensors, 24(5), 1704.
  2. Rac, O., Karbownik, I., Fiedot, M., Rybicki, T., Karpińska, A. (2016, September). Composite Fibres Doped with Carbon Nanoparticles for use in Textronics. In IMAPS (pp. 25-28).

Najważniejsze projekty

  1. 2023 – 2024, Politechnika Wrocławska, Miniatura 7, Narodowe Centrum Nauki, „Analiza wykonalności powierzchni selektywnych częstotliwościowo (FSS) drukowanych na materiałach tekstylnych” DEC-2023/07/X/ST7/00027, kierownik projektu Olga Rac-Rumijowska.
  2. 2024 – obecnie, Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki , Studenckie koła naukowe tworzą innowacje, Ministerstwo Nauki i Szkolnictwa Wyższego, „Tensometry tekstroniczne”, SKN/SP/601702/2024, kierownik projektu Olga Rac-Rumijowska.
Politechnika Wrocławska © 2025

Nasze strony internetowe i oparte na nich usługi używają informacji zapisanych w plikach cookies. Korzystając z serwisu wyrażasz zgodę na używanie plików cookies zgodnie z aktualnymi ustawieniami przeglądarki, które możesz zmienić w dowolnej chwili. Ochrona danych osobowych »

Akceptuję